| 000 | 03678cam a2200673 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 57699006X | ||
| 003 | DE-627 | ||
| 005 | 20250624174257.0 | ||
| 007 | tu | ||
| 008 | 080903s2009 xxk||||| 00| ||eng c | ||
| 010 | _a 2009419379 | ||
| 016 | 7 |
_a014702512 _2UK |
|
| 020 |
_a0854044655 _chbk. : £149.00 _90-85404-465-5 |
||
| 020 |
_a9780854044658 _chbk. : £149.00 _9978-0-85404-465-8 |
||
| 024 | 3 | _a9780854044658 | |
| 035 | _a(DE-D210)CP000007208 | ||
| 035 | _a(DE-576)283432527 | ||
| 035 | _a(DE-627)57699006X | ||
| 035 | _a(DE-599)GBV57699006X | ||
| 035 | _a(OCoLC)550588351 | ||
| 035 | _a(OCoLC)315856255 | ||
| 040 |
_aDE-627 _bger _cDE-627 _erda |
||
| 041 | _aeng | ||
| 044 | _cXA-GB | ||
| 050 | 0 | _aTS695 | |
| 082 | 0 |
_a671.735 _qLOC _222 |
|
| 084 |
_aUP 7550 _2rvk _0(DE-625)rvk/146434: |
||
| 084 |
_a35.13 _2bkl |
||
| 245 | 0 | 0 |
_aChemical vapour deposition _bprecursors, processes and applications _cedited by Anthony C. Jones (Department of Chemistry, University of Liverpool, Liverpool, UK) and Michael L. Hitchman (Thin Film Innovations Limited, Glasgow, UK) |
| 264 | 1 |
_aCambridge _bRSC Publishing _c[2009] |
|
| 264 | 4 | _c© 2009 | |
| 300 |
_axv, 582 Seiten _bIllustrationen, Diagramme _c25 cm |
||
| 336 |
_aText _btxt _2rdacontent |
||
| 337 |
_aohne Hilfsmittel zu benutzen _bn _2rdamedia |
||
| 338 |
_aBand _bnc _2rdacarrier |
||
| 500 | _aLiteraturangaben | ||
| 583 | 1 |
_aArchivierung prüfen _c20240324 _fDE-4165 _z1 _2pdager |
|
| 583 | 1 |
_aArchivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet _c20240722 _fNI-LastCopies _zPotenzieller Alleinbesitz Niedersachsen _2pdager _5DE-89 |
|
| 650 | 0 | _aChemical vapor deposition | |
| 655 | 7 |
_aAufsatzsammlung _9209726091 |
|
| 655 | 7 |
_aAufsatzsammlung _0(DE-588)4143413-4 _0(DE-627)105605727 _0(DE-576)209726091 _2gnd-content |
|
| 689 | 0 | 0 |
_Ds _0(DE-588)4009846-1 _0(DE-627)104409770 _0(DE-576)208884939 _aCVD-Verfahren _2gnd |
| 689 | 0 | _5DE-101 | |
| 689 | 1 | 0 |
_Ds _0(DE-588)4009846-1 _0(DE-627)104409770 _0(DE-576)208884939 _aCVD-Verfahren _2gnd |
| 689 | 1 | _5(DE-627) | |
| 700 | 1 |
_aJones, Anthony C. _eHerausgeberIn _4edt |
|
| 700 | 1 |
_aHitchman, Michael L. _eHerausgeberIn _4edt |
|
| 776 | 1 |
_z9781847558794 _cebk |
|
| 776 | 0 | 8 |
_iErscheint auch als _nOnline-Ausgabe _tChemical vapour deposition _d Cambrigde : RSC Publishing, 2009 _h1 Online-Ressource (XVI, 582 Seiten) _w(DE-627)1654295116 _w(DE-576)480385459 _z9781847558794 |
| 776 | 0 | 8 |
_iErscheint auch als _nOnline-Ausgabe _tChemical vapour deposition _dCambridge, UK : Royal Society of Chemistry, 2009 _h1 online resource (xv, 582 pages) _w(DE-627)1653834706 _w(DE-576)516816187 _z9781847558794 _z1847558798 _z9781621987031 _z1621987035 _z9780854044658 |
| 856 | 4 | 2 |
_uhttps://swbplus.bsz-bw.de/bsz283432527cov.jpg _mV:DE-576 _mX:springer _qimage/jpeg _v20090603074423 _3Cover |
| 856 | 4 | 2 |
_uhttp://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&doc_number=016807859&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA _mV:DE-604 _qapplication/pdf _v20090731000000 _3Inhaltsverzeichnis |
| 935 | _iBlocktest | ||
| 936 | r | v |
_aUP 7550 _bHerstellung dünner Schichten incl. Epitaxie-Schichten, Dünnschichttechnik _kPhysik _kFestkörperphysik _kPhysik dünner Schichten und Grenzflächen _kHerstellung dünner Schichten incl. Epitaxie-Schichten, Dünnschichttechnik _0(DE-627)1271553864 _0(DE-625)rvk/146434: _0(DE-576)201553864 |
| 936 | r | u |
_aZM 7680 _bPVD-Verfahren, CVD-Verfahren, Plasmaverfahren _kTechnik _kWerkstoffwissenschaften und Fertigungstechnik _kOberflächentechnik, Beschichten _kPVD-Verfahren, CVD-Verfahren, Plasmaverfahren _0(DE-627)1271523655 _0(DE-576)201523655 _zUngueltig |
| 936 | b | k |
_a35.13 _jReaktionskinetik _0(DE-627)106417479 |
| 942 | _cBK | ||
| 951 | _aBO | ||
| 999 |
_c6725 _d6725 |
||