000 01377cam a2200385 cc4500
001 1347124535
003 DE-627
005 20250624174354.0
007 tu
008 080211s2008 gw ||||| 00| ||eng c
035 _a(DE-D210)CP000006127
035 _a(DE-576)277124530
035 _a(DE-627)1347124535
035 _a(DE-599)BSZ277124530
035 _a(OCoLC)315974493
040 _aDE-627
_bger
_cDE-627
_erakwb
041 _aeng
044 _cXA-DE-BW
076 b _aod
084 _aUR 8000
_2rvk
_0(DE-625)rvk/146642:
090 _aa
245 0 0 _aLow temperature plasmas
_bfundamentals, technologies and techniques
_n1
_ced. by Rainer Hippler ...
250 _a2., rev. and enlarged ed.
264 1 _aWeinheim
_bWiley-VCH
_c2008
300 _aXXXIII, 409 S.
_bIll., graph. Darst.
336 _aText
_btxt
_2rdacontent
337 _aohne Hilfsmittel zu benutzen
_bn
_2rdamedia
338 _aBand
_bnc
_2rdacarrier
583 1 _aArchivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet
_fPEBW
_2pdager
_5DE-31
773 1 8 _w(DE-627)1336598107
_w(DE-576)266598102
_g1
_q1
_7nnam
935 _isf
936 r v _aUR 8000
_bPlasmaphysik allgemein
_kPhysik
_kPhysik der Flüssigkeiten und Gase, Plasmaphysik
_kPhysik der Gase und Plasmen
_kPlasmaphysik
_kPlasmaphysik allgemein
_0(DE-627)1271486253
_0(DE-625)rvk/146642:
_0(DE-576)201486253
942 _cBK
951 _aMV
999 _c5737
_d5737